无掩模版紫外光刻机

      ACA系列是科研版的无掩模版紫外光刻机，其基于空间光调制技术，实现了数字掩模光刻，极致的灵活性使其成为科学研究的不二之选。设备搭载长寿命、高功率的紫外光源，设备稳定，上手简单。其独特的原位光绘和交互式套刻指引功能，让光刻和套刻更加容易和精准。ACA系列设备为科研工作提供了强大的支持，助力科学研究领域的发展和创新。

产品特色

• 灵活设计，无需掩膜版
• 加工精度可达300nm
• 速度高达1200mm2/min
• 加工幅面可达4m2
• 灰度光刻可达4096阶
• 包含直接绘图、精准套刻、阵列光刻、主动对焦功能
• 可光刻衬底包括常规硅基、钻石、光纤、小型发动机曲面叶片等

产品参数

备注：

（1）产品规格参数取决于个别工艺条件，并可能根据设备配置而有所不同，写入速度取决于曝光面积。

（2）标准光源为405nm，其它波长选配。

产品应用

• 微流道芯片：微流道芯片是一种微型化的芯片，它在几平方厘米的微小空间内构建了复杂的通道网络，具有高精度、高集成度等特点。它能够对微量流体进行精确控制和处理，实现多种功能的集成，在生物医学、化学分析、环境监测等领域广泛应用。微流道芯片的优势在于样品和试剂消耗少、分析速度快、自动化程度高，为科学研究和实际应用提供了一种高效、便捷的技术手段。

• 二维材料电极：二维材料电极制备是指通过一系列方法和工艺，将二维材料转化为具有电极功能的结构体的过程。通常二维材料电极具有尺寸小、精度高的特点，而且有频繁的套刻对准和变更电极图形的需求。无掩膜光刻技术高精度、高灵活性的特点能够很好地满足这样的应用场景。托托科技的无掩膜光刻机，针对二维材料电极制备，开发了交互式套刻对准技术，让器件制备更加得心应手。

• 光学掩膜版：光学掩膜版是光刻工艺中的关键组件，承载着芯片设计的图形图案。它由透光与不透光部分构成，其精度和质量对芯片制造至关重要。通过将掩膜版上的图案投影到晶圆上，实现电路图案的转移，具有高精度、高稳定性和耐用性的特点，广泛应用于集成电路、显示器等领域，是微电子制造中不可或缺的一部分。

• MEMS器件：MEMS 器件，即微机电系统器件，是融合了微电子技术和机械工程的微型器件。它们小巧精致，却具备多种功能。MEMS 器件在微米甚至纳米级别进行设计和制造，具有体积小、重量轻、能耗低等优势，广泛应用于各个领域，如传感器、执行器等，为现代科技带来革命性的变化，改变着我们的生活。它们的出现推动了智能化和微型化的发展，为未来的科技创新开辟了广阔的前景。

• 灰度光刻：灰度光刻是一种先进的光刻技术。它通过调整曝光剂量，实现对光刻胶曝光程度的精细控制。该技术具有高度的灵活性，能够制造出具有复杂结构和高精度的器件。灰度光刻在微纳加工领域发挥着重要作用，可用于制备微型传感器、光学元件等。其优势在于能够提高图案分辨率、增加设计自由度，同时还能降低成本、提高生产效率，为微纳器件的制造提供了有力的支持。

• 特殊微纳结构：微纳结构指的是存在于微观和纳米尺度的结构，它们具备尺寸微小、形态丰富多样的特性。在材料科学、电子技术以及生物医学等领域，微纳结构都拥有着重要的应用。其研究有力地推动了科技的发展进程，为解决众多领域的难题提供了全新的途径。托托科技的无掩膜光刻机具有显著优势，它不仅具备高精度的优势，还具有快速灵活的特点。正因如此，这款光刻机极其适用于微纳结构的研究和制备工作，为相关领域的发展提供了有力的支持。